纳米高速胶体磨

产品简介

纳米高速胶体磨是实现物料纳米级细化的专用设备，通过超高转速转子与定子配合，产生强剪切、研磨及空化效应。它能将固液或液液物料细化至纳米尺度，打破团聚，适配医药、新能源、高duan涂料等领域。设备符合精密生产标准，可连续作业，提升物料活性与均匀度，保障下游产品性能稳定。

产品型号：GMD2000

更新时间：2025-10-22

厂商性质：生产厂家

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纳米高速胶体磨

纳米胶体磨超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

纳米高速胶体磨

根据一些行业的特殊要求, SID 在GM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款GMS2000超高速胶体磨，转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒径分布更小。

超高速胶体磨的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

GM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

纳米高速胶体磨

纳米高速胶体磨设备参数表：

研磨分散机	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。

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