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产品简介
氧化锆陶瓷胶体磨是针对氧化锆陶瓷高硬度特性设计的超细研磨设备，采用氧化锆材质磨盘耐磨损，通过高速定转子剪切与研磨，将陶瓷颗粒细化至微米级。配备冷却系统防过热，保障粒径均一。广泛用于电子陶瓷、生物陶瓷领域，为氧化锆陶瓷制品提供高纯度、细粒度的原料，是陶瓷深加工核心设备。
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ARTICLES是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。研磨效果对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
胶体磨的重要应用:
磨头有氧化锆组成,硬度非常硬,适合那些电池浆料 ,电子浆料 ,生产一些不带电的原料
还可以化学工业：油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、相修齐 石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,钛白 粉,炭黑等。
陶瓷胶体磨是由二组陶瓷转子，二组陶瓷定子组成，在陶瓷胶体磨泵腔内部转子高速旋转，使陶瓷转子甩出，紧贴陶瓷定子，产生强劲的动能能快速地将粉体分散到液体中，高效、快速、均匀地将一个相或多个相分布到另一个连续的相中，通常物料中的各个相是互不相溶的。陶瓷胶体磨使物料在定转子之间微小的空隙中受到剪切、离心挤压、撞击、研磨、高频振荡等综合作用，使物料经过研磨后细度大大提高，再通过适量的添加剂共同作用，使产品快速、均匀、分散、乳化，研磨，避免了原金属胶体磨磨损后效果差缺点，效能比原来有胶体磨提高3倍以上，陶瓷胶体磨特别是对金属污染要求特别高的企业，如电子和电池行业，可以达到更高品质产品。
优势:
①结合优良的研磨效果的高吞吐量，定制不同的研磨刀头，实现多种研磨剪切速率，为减少颗粒大小的控制，可无限调整定子/转子之间的间隙设置 SID胶体磨GM与生产系统的密实度作为机器联机设计的结果。
②适合于粘度高50,000 mPas的各种粘度范围的物料，能在高达16 bar的压力下操作，容易扩大规模生产，从实验室机器MK开发到生产机器MK。
③所有接触液体的部件为316L或316Ti不锈钢，具有耐磨材料的高性能机械密封密封，高质量的表面处理，便于清洗。可根据要求提供其他材料和表面处理，机器可自动排水， 具有CIP和SIP功能，噪音低。根据符合EHEDG（欧洲卫生工程设计集团）准则制造，符合3A卫生和认证，根据需要提供制药，根据提供的ATEX 95指导方针执行防爆 。
氧化锆陶瓷胶体磨设备参数表：
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 | |||||
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