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产品简介
油性石墨浆料研磨设备是电子材料领域专用设备，采用高速转定子与研磨介质协同作用。通过撞击、剪切效应破解石墨团聚，将颗粒细化至亚微米级，确保分散均匀。设备密封性好、可连续运行，适配油性体系，能保障浆料导电稳定性，广泛应用于导电涂料、电池电极等生产场景。
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ARTICLES油性石墨浆料研磨设备
石墨烯浆料分为两种，以水为介质分散叫水性，以NMP为介质分散叫油性，石墨烯根据石墨烯原料的不同，一般含量在2.5-5的固含量之间打成浆料，影响石墨烯分散或者剥离的因素有很多，设备的选型，分散剂的使用，固含量的把握
石墨烯有单层、双层、多层,具体如下：
单层石墨烯（Graphene）：指由一层以苯环结构（即六角形蜂巢结构）周期性紧密堆积的碳原子构成的一种二维碳材料。
双层石墨烯（Bilayer or double-layer graphene）：指由两层以苯环结构（即六角形蜂巢结构）周期性紧密堆积的碳原子以不同堆垛方式（包括AB堆垛，AA堆垛，AA‘堆垛等）堆垛构成的一种二维碳材料。
少层石墨烯（Few-layer）：指由3-10层以苯环结构（即六角形蜂巢结构）周期性紧密堆积的碳原子以不同堆垛方式（包括ABC堆垛，ABA堆垛等）堆垛构成的一种二维碳材料。
多层或厚层石墨烯（multi-layer graphene）：指厚度在10层以上10nm以下苯环结构（即六角形蜂巢结构）周期性紧密堆积的碳原子以不同堆垛方式（包括ABC堆垛，ABA堆垛等）堆垛构成的一种二维碳材料。
石墨烯（Graphenes）：是一种二维碳材料，是单层石墨烯、双层石墨烯和多层石墨烯的统称。
石墨烯主要制备方法：
制备石墨烯常见的方法为机械剥离法、氧化还原法、SiC外延生长法和化学气相沉积法（CVD）。
1.机械剥离法是利用物体与石墨烯之间的摩擦和相对运动，得到石墨烯薄层材料的方法。这种方法操作简单，得到的石墨烯通常保持着完整的晶体结构，但是得到的片层小，生产效率低。
墨层之间的间距，再通过物理方法将其分离，***后通过化学法还原，得到石墨烯的方法。这种方法操作简单，产量高，目前国内使用氧化，还原法制作石墨烯浆料的，如：宁波墨
稀、东莞鸿纳、第六元素等企业，
3.SiC外延法是通过在超高真空的高温环境下，使硅原子升华脱离材料，剩下的C原子通过自组形式重构，从而得到基于SiC衬底的石墨烯。这种方法可以获得高质量的石墨烯，但是这种方法对设备要求较高
4.CVD也叫气相沉积法是目前有可能实现工业化制备高质量、大面积石墨烯的方法。这种方法制备的石墨烯具有面积大和质量高的特点，国内用气相沉积法制作石墨烯浆料的如 重庆墨稀、常州第六元素等企业
GMD2000研磨机有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，GM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。
油性石墨浆料研磨设备设备选型表：
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 | |||||
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