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硅橡胶改性分散机

产品简介

硅橡胶改性分散机是针对硅橡胶改性工艺设计的专用设备,采用多级高剪切与研磨协同技术,强效打散填料团聚体,实现改性剂与硅橡胶均匀分散。设备转速可调、分散头可更换,适配不同粘度物料,粒径分布窄且结合稳定。适用于电子、建材等领域的研发与量产,保障产品力学性能与稳定性。

产品型号:GMD2000
更新时间:2025-11-06
厂商性质:生产厂家
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硅橡胶改性分散机

硅橡胶具有优异的耐热性、耐寒性和电性能,广泛用于电绝缘制品和密封制品等领域中,近几年得到了长足发展。随着工业化水平的不断提高,人们对硅橡胶的要求也越来越高,传统的硅橡胶产品难以满足人们的要求,尤其在机械性、阻燃性和抗老化性等方面,因此,对硅橡胶进行改性势在必行。


纳米粒子具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应和宏观量子隧道效应,因而展现出许多te有的性质。在催化、光吸收、磁介质及新材料等领域有良好的发展前景,在对高分子材料性能的改善与提高方面也具有巨大的发展空间。利用纳米材料作为改性剂对室温硫化硅橡胶进行相关性能研究是一种新颖而有效的手段,纳米SiOx粒子尺寸在10-15 nm,表面原子数目多,具有较高的表面能和表面结合能;同时,纳米SiOx粒子表面氧原子大量流失,纳米SiOx分子式中值在1.2~1.6之间,因而粒子表面欠氧而具有不稳定的硅氧结构;另外,纳米SiOx粒子表面还含有大量羟基,表面羟基值高达48%。因而利用纳米SiOx对室温硫化硅橡胶改性时将产生特殊的效果。并且,纳米SiOx的主要成分与室温硫化硅橡胶的主链组成相同,有利于纳米材料在其中分散。再加以高精密的分散设备的配合,防止纳米SiOx在分散中形成二级团聚体

硅橡胶改性分散机

GMD2000系列研磨分散机的结构:

研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品

第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。


GMD2000系列研磨分散机的特点

①线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

②定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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硅橡胶改性分散机


GMD2000设备选型表:

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。




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