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凝胶胶体磨

产品简介

凝胶胶体磨是针对半固态凝胶物料的专用细化设备,核心通过高速相对运动的定转子,产生强烈剪切、研磨力与高频振动。其研磨间隙可调,三级错齿结构可将凝胶细化至微米级,破解团聚体以优化胶体稳定性。广泛应用于化妆品、医药等领域的凝胶制备,适配高粘度特性,保障产品细腻度与均一性。

产品型号:GM2000
更新时间:2025-10-24
厂商性质:生产厂家
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凝胶胶体磨

高剪切胶体磨是将物料通过过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

凝胶:亦称冻胶,是溶胶失去流动性后,一种富含液体的半固态物质,其中液体含量有时可高达99.5%,固体粒子则呈连续的网络体。它是指胶体颗粒或高聚物分子相互交联,空间网络状结构不断发展,*终使得溶胶液逐步失去流动性,在网状结构的孔隙中充满液体的非流动半固态的分散体系,它是含有亚微米孔和聚合链的相互连接的坚实的网络。

溶胶—凝胶技术是溶胶的凝胶化过程,即液体介质中的基本单元粒子发展为三维网络结构——凝胶的过程。凝胶与溶胶是两种互有联系的状态。乳胶冷却后即可得到凝胶;加电解质于悬胶后也可得到凝胶。凝胶可能具有触变性:在振摇、超声波或其他能产生内应力的特定作用下,凝胶能转化为溶胶。溶胶向凝胶转变过程主要是溶胶粒子聚集成键的聚合过程。上述作用一经停止,则凝胶又恢复原状,凝胶和溶胶也可共存,组成一个更为复杂的胶态体系。凝胶可分为易胀型(如明胶)和非易胀型(如硅胶)两类;凝胶义分为弹性凝胶和脆性凝胶。

凝胶胶体磨


使用特殊的“胶体磨"将粗分散程度的悬浮液通过研磨而制成溶胶。实验室常用“胶溶法"将固体分散而制备溶胶。以无机物作为源物质,在溶液中进行化学反应而生成固体沉淀物,新生成的固体沉淀物在适当的条件下能重新分散而达到胶体分散程度的现象称为胶溶作用。再用某种方法促使胶体失去流动性,变成弹性固体状态的凝胶体。这种方法也可以称为“溶液-溶胶-凝胶"法。


   优点:是化学过程比较简单、原料成本低、烧结后无有机残渣;

缺点:是需要对胶体沉淀物长时间连续清洗后才能制得凝胶,因而制备周期比较长、可能会造成一定的原料损失。


目前,国内产品质量较好的企业使用的研磨方式主要采取一步法的3000转胶体磨,能基本满足用户的需要。由于我们行业的特点,有相当多的中小企业分散设备十分落后,研磨时根本形成不了剪切力,从而无法发挥材料的性能。造成这种情况的主要原因① 尚未对分散的作用有正确的认识.许多生产商并未意识到分散的重要性;② 不知道对zui终产品的品质如何评价,

胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

凝胶胶体磨

GM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GM2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 凝胶胶体磨设备参数表:

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。

 




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