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气相白炭黑高速胶体磨是专用于气相白炭黑分散的高效设备，依托高速旋转的定转子产生强剪切、撞击力，打破白炭黑团聚体，实现均匀分散。它能提升物料稳定性与性能，适配涂料、胶粘剂等领域，具有分散效率高、粒径控制精准、操作便捷的特点，是气相白炭黑应用中的关键加工设备。
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高熔点、高硬度、难溶于水和耐酸碱性。
在电子工业中，二氧化硅用于制造集成电路、微电子器件和光电器件；在医疗器械领域，它被用作人工骨、人工关节和牙齿修复材料；在建筑材料领域，二氧化硅因其防火性能和保温隔热效果而被用于隔热材料、保温材料和防水材料；在精细化工领域，二氧化硅应用于化妆品、涂料、橡胶、塑料等；在食品添加剂领域，二氧化硅用于防止食品氧化和吸湿；在玻璃制造领域，它是制造平板玻璃、玻璃瓶、玻璃器皿及高级光学仪器玻璃的必需原材料；此外，二氧化硅也用作锂离子电池的正极材料。
制备方法主要有物理法通过高纯度石英砂经过研碎、洗涤、筛分等工艺得到细粉状的二氧化硅。化学法主要通过化学反应来制备，常用的方法包括氯化法和溶胶-凝胶法，其中氯化法将硅石与氢氯酸反应生成氯硅烷，再通过氧化或水解反应制得二氧化硅；溶胶-凝胶法则通过将硅源溶解于溶剂中形成溶胶，然后通过凝胶化和热处理得到二氧化硅。浸出法通过酸性溶液浸出硅源，再经过沉淀、烘干等步骤制取二氧化硅。
纳米颗粒二氧化硅催化剂是指颗粒尺寸小于100 nm的材料。该类催化剂具有高比表面积、晶体质量好等优点，可用于催化反应、光催化等领域。常见的制备方法包括溶胶-凝胶法、气相沉积法等。
SID模块化设计的主要特点如下：
-直立式腔体结构，物料可以全部进入分散腔；
-无si角；
-良好的表面处理；
-符合CIP/SIP的清洗要求；
-低噪音；
-所有接触物料的材质均为SS316；
-小试、中试到量产，平稳过渡；
-仅需简单的更换功能模块，即可满足分散-悬浮-均质-乳化的不同要求；
-卫生设计，适合食品及制药行业；
-可提供特殊材质满足磨损性及腐蚀性产品处理要求。
表中上限处理量是指介质为“水"的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料；物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
气相白炭黑高速胶体磨设备参数表：
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 | |||||
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