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药用辅料二氧化tai研磨分散机，是专业针对二氧化tai用于医药领域时的特性研发。二氧化tai作为药用白色颜料，广泛用于不透明胶囊、片剂薄膜包衣等。该设备运用高剪切等技术，打破传统设备局限，转速远超常规，可达14000转 ，能高效破除二氧化tai团聚现象，使物料充分分散 。设备材质符合医药卫生标准，从SUS304到氧化锆陶瓷多种可选，且具备多种联结形式、丰富电机类型，能满足不同生
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二氧化tai在食品和医药中使用二氧化tai同样是利用了其不透明性，以提高食品和医药制品的装饰增白着色效果。药用白色颜料，具有颜料性能好，有害杂质含量低等优点，是食品着色的添加剂，具有粒度均匀，均质性好的优点，适合用于：果冻、膨化食品、糖果、凉果、口香糖、硬糖、沙拉酱、碳酸饮料和奶制品系列等食品增白着色。药用白色颜料，具有优异颜料性能有害杂质的量低，适合制造不透明、片剂薄膜包衣、霜剂、药用包装材料、药用油墨，也可作为化妆品和食品的添加剂。具有粒度均匀，均质性好的优点，去粒子水和明胶中均质良好，无絮凝沉淀物。
研磨分散机对于研磨药用辅料二氧化tai的优势：
一、缩短工艺时间。SID高剪切乳化分散设备可以迅速地混合分散二氧化tai粉末，并消除结块和团聚。也提供GLD和GLC粉体/液体混合机，将粉体直接加入液体，无需循环处理，一次性通过便可成型。
二、提高品质。SID高剪切混合机可以打碎结块粉体，并与液体充分混合。这样可以改善产品光泽和透明度，这两个特征由分散好坏直接决定。
三、减少资金投入。SID磨机可以纳米程度缩小粒径，达到窄粒径分布。分散研磨设备的流量比同类研磨设备高出很多，但也可达到相类似的效果。模块化设计的SID 2000系列产品，可以帮助客户节约资金投资。
SID公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。将SID高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来GM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成研磨分散机，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成。
研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。
【GMD2000系列研磨分散机的特点】
① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
药用辅料二氧化tai研磨分散机GMD2000设备型号参数表：
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 | |||||
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