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半导体单壁碳纳米管分散机，专为解决半导体单壁碳纳米管分散难题而设。设备运用高速剪切、强力研磨等技术，借高速旋转的转子与定子，对物料施加强大作用力，打破碳纳米管团聚体，使其均匀分散于溶剂或树脂体系，广泛用于电子器件、复合材料等领域 。
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ARTICLES半导体单壁碳纳米管分散机
单壁碳纳米管以其du特而且优异的物理化学性质在诸多领域上的应用 方面展现了很好的发展前景。目前存在的制备单壁碳纳米管(SWNTs)的方法得到的都是不同导电性，不同手性混合的样品，他们的区别主要是由直径和螺旋角 和手性指数决定的。于是金属性SWNTs与半导体性SWNTs(m-SWNTs，s-SWNTs)及不同手性的单壁碳纳米管的分离技术就显得尤为重要。
碳纳米管导电浆料及其制备方法
碳纳米管导电浆料主要由碳纳米管、其他导电填料、分散助剂、和溶剂组成，其质量百分比组成为：碳纳米管：0.5-15%，其他导电物质0.1-2%，分散助剂：0.1-5%，其余为溶剂。
该碳纳米管导电浆料制备方法为：首先将分散助剂溶解在溶剂中，然后在搅拌条件下加入碳纳米管和其他导电填料，待碳纳米管和其他导电填料充分浸润后，采用SID研磨分散机对浆料进行研磨分散，几小时后即可得到稳定分散的碳纳米管导电浆料。本发明方法简单，不破坏碳纳米管结构和导电性，所制得的碳纳米管导电浆料具有优良的导电性，且性质稳定均一，静置3个月后，浆料稳定性>90%。
对于碳纳米管浆料以及其他锂电池浆料的研磨分散，普遍存在着2个难以解决的问题：
1、研磨的细度，传统的设备研磨设备是通过刀头去磨细，这样经常会破坏碳纳米管结构和导电性，使物料变性。而SID研磨分散机，细化物料更多的是通过物料与物料直接的撞击来完成研磨细化的功能，不会破坏物料结构。
2、容易形成二级团聚体，在碳纳米管粒径细化之后，由于分子之间的作用力，小的物料又会二次团聚，从而影响zui终产品的物料粒径以及分散的效果。SID研磨分散机很好的克服了二级团聚的现象，SID研磨分散机是研磨机和分散机一体化的设备，在碳纳米管浆料粒径细化后，瞬间通过分散工作腔，进行分散，避免二次团聚的现象。
半导体单壁碳纳米管分散机，GMD2000研磨分散机有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，GM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。
GMD2000研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。
研磨分散机的特点：
更稳定 采用优化设计理念，将先进的技术与创新的思维有效融合，并体现在具体的设备结构设计中，为设备稳定运行提供了保证.
新结构 通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，超高线速度的吸料式叶轮提供chao强切割力，纤维湿法研磨破碎可达400目.
更可靠 采用整体式机械密封，程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题，安装与更换方便快捷.
新技术 采用国际xian进的受控切割技术，将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内，满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.
GMD2000系列研磨分散机设备选型表:
标准流量 | 输出转速 | 标准线速度 | 马达功率 | |||
L/H | rpm | m/s | KW | |||
GRS2000/4 | 300 | 14000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
GRS2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
GRS2000/10 | 3000 | 7500 | 44 | 22 | DN50 | DN50 |
GRS2000/20 | 20000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
GRS2000/30 | 40000 | 2850 | 44 | 75 | DN150 | DN125 |
GRS2000/50 | 60000 | 2000 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
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