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产品简介
连续式高剪切胶体磨是兼具连续生产与精细研磨的设备，核心通过高速旋转的定转子产生强剪切、研磨力，将物料细化至微米级，同时实现连续进料与出料。它适配食品、医药、化工等领域，能保障物料均一性，具备处理效率高、运行稳定、易清洁的特点，满足工业化大规模生产需求。
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连续式胶体磨GM2000系列特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，GM在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。GM2000整机采用几何机构的研磨定转子，的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。
连续式胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品。
一、设备定义与核心定位
研磨系统：作为设备核心，由定子与转子组成。定子内壁与转子外壁均设有精密沟槽（常见直线槽、斜齿槽或曲线槽），沟槽深度、齿形角度根据处理物料特性设计，通过两者高速相对运转产生强剪切力；部分gao端设备采用三级或多级研磨结构，可逐步提升物料细化程度。
进料与出料系统：进料口通常配备稳流装置，避免物料冲击导致的研磨不均；出料口可连接管道或储料罐，支持与生产线其他设备联动，确保连续作业流程顺畅，部分设备可根据需求调节出料压力与速度。
传动系统：由电机、皮带或齿轮传动组件构成，为转子提供稳定动力。优质设备会搭配高精度轴承，保障高速运转时的稳定性，部分型号支持变频调速，可根据物料特性调整转速。
密封系统：多采用机械密封（单密封或双密封），防止物料泄漏污染环境或渗入电机烧毁部件；医药、食品级设备的密封材质需符合 GMP 标准，确保与物料接触部分无毒、耐腐且易清洁。
控温系统：部分设备配备冷却夹套或散热结构，因高速研磨易产生热量，控温系统可避免物料因高温变性，尤其适配热敏性物料（如医药中间体、食品浆料）的处理。
三、工作原理
连续式高剪切胶体磨设备选型表：
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 | |||||
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