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产品简介
碳纳米管研磨分散设备是制备高性能碳纳米管浆料的核心设备，专注解决团聚问题。它通过低损伤研磨结构与高剪切力协同，在保护碳纳米管结构的同时，将其均匀分散于溶剂中，确保浆料粒径均一、稳定性强。设备带精准温控，适配锂电池、导电涂料等领域，为提升下游产品导电性能奠定基础。
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碳纳米管导电浆料及其制备方法
碳纳米管导电浆料主要由碳纳米管、其他导电填料、分散助剂、和溶剂组成，其质量百分比组成为：碳纳米管：0.5-15%，其他导电物质0.1-2%，分散助剂：0.1-5%，其余为溶剂。
该碳纳米管导电浆料制备方法为：首先将分散助剂溶解在溶剂中，然后在搅拌条件下加入碳纳米管和其他导电填料，待碳纳米管和其他导电填料充分浸润后，采用SID研磨分散机对浆料进行研磨分散，几小时后即可得到稳定分散的碳纳米管导电浆料。本发明方法简单，不破坏碳纳米管结构和导电性，所制得的碳纳米管导电浆料具有优良的导电性，且性质稳定均一，静置3个月后，浆料稳定性>90%。
对于碳纳米管浆料以及其他锂电池浆料的研磨分散，普遍存在着2个难以解决的问题：
1、研磨的细度，传统的设备研磨设备是通过刀头去磨细，这样经常会破坏碳纳米管结构和导电性，使物料变性。而SID研磨分散机，细化物料更多的是通过物料与物料直接的撞击来完成研磨细化的功能，不会破坏物料结构。
2、容易形成二级团聚体，在碳纳米管粒径细化之后，由于分子之间的作用力，小的物料又会二次团聚，从而影响*终产品的物料粒径以及分散的效果。SID研磨分散机很好的克服了二级团聚的现象，SID研磨分散机是研磨机和分散机一体化的设备，在碳纳米管浆料粒径细化后，瞬间通过分散工作腔，进行分散，避免二次团聚的现象。
GMD2000系列研磨分散设备是SID公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）。
碳纳米管研磨分散设备参数表：
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 | |||||
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