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产品简介
实验室研磨分散机是小型化物料处理设备，专为研发阶段的样品研磨、分散实验设计。它通过高剪切或研磨组件，将少量物料（毫升至升级）细化至微米 / 纳米级，精准控制粒径，适配医药、材料、食品等领域的配方研发。设备体积小、操作便捷，支持多种容器适配，且易清洁防交叉污染，满足实验室小批量、高精度的处理需求。
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ARTICLES实验室研磨分散机
GMD2000/4是一款应用于实验室小试和中试的设备，集研磨、分散、均质、乳化于一体，在多个领域和行业有着突出的应用。如化工行业：白炭黑、环氧树脂等超细研磨分散机；食品行业：植物蛋白饮料、胶原蛋白提取等；都可以获得良好的研磨分散细化的效果。
GMD2000/4，电机功率：2.2kw，转速高达14000rpm，处理在0-200L，设备体积较小，可直接放置实验台上操作。专为实验室研发，模拟生产流程，为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同，且分散头的种类及相应线速度也相同，中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整，而将机器型号升级过程中的风险降到zui低。
GMD2000/4是由胶体磨+分散机一体化而成的设备，先研磨后分散，效率高效果好。GMD2000系列研磨分散设备是公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化i头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。
实验室研磨分散机设备参数表：
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 | |||||
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