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产品简介
纳米粉体高剪切研磨分散机，该设备专为破解纳米粉体强团聚难题设计，集成高剪切分散与研磨功能。通过超 18000rpm 高速转定子产生强剪切力，配合研磨介质撞击，高效破碎团聚体并细化至纳米级。可精准控粒径、适配多物料，保障分散均匀稳定，助力新能源、医药等领域实现粉体材料高性能应用。
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ARTICLES纳米粉体高剪切研磨分散机
纳米粉体的分散是基础研究领域和工业技术部门普遍遇到的课题，其应用日益广泛，如化工、医药、涂料、材料、食品等。分散技术不仅是提高产品质量和性能及提高工艺效率不ke缺少，而且是十分重要的技术手段。
但是由于纳米粉体粒度小，极易产生自发凝并，表现出强烈的聚团特性，不论在空气中还是在液相中均易生成粒径较大的二次粉体，聚团的结果导致纳米粉体材料性能的严重劣化。另一方面，在复合材料的制备过程中，由于纳米粉体的这种强烈团聚特性和它与复合基体材料的极性差异，纳米粉体很难均匀地分散在基体材料中形成均质复合材料，是复合材料的性能难以达到人们预期的效果。
所以为了解决这一问题，各种类型的分散设备应运而生，粉体的分散、混合与均化在粉体技术中有三个目的。其一是使团聚粉体的碎解和分散，尽力使团聚粉体达到单粉体分散；其二是在粉体制备过程中由于各部分或前后生产的产品的成分或粒度不均匀，而在使用时需要性能均一的粉体材料，为了消除各部分性能上的差异，需要对粉体材料进行分散、混合与均化处理；其三是，有些粉体材料需要进行改性处理，为了保证改性处理的均一性，也需要进行分散、混合与均化处理。
目前对于纳米粉体的分散，一般采用以下几种设备：
一、超声分散机，超声方式分散，对于小批量的物料还行，但无法放大生产。
二、机械搅拌分散机，这种在工业化分散中比较常见，但是由于自身的结构，转速低，分散有死角，导致*终分散效果差，并且分散的效率很低。
三、混合分散机，这种分散机适合高粘度的物料的分散，电机功率大，但是也存在和机械搅拌分散机一样的问题，分散效率低，效果差。
随着纳米粉体分散的进一步发展，SID研发出的分散设备-研磨分散机。结构为胶体磨头+分散头定转子，先研磨打开团聚体，在瞬时通过分散工作组进行分散，分散效率快，分散效果好。
SID研磨分散机在纳米粉体的分散中有着突出的应用和优势，如石墨烯、碳纳米管、二氧化硅、纳米树脂、纳米涂料、医药纳米混悬液等都有着成功的经验和案例。
SID研磨分散机的研发初衷就是为了解决纳米物料分散，解决粉体分散到液体中，二次团聚的问题。GMD2000系列研磨分散设备是SID公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三层高剪切均质乳化机进行改装，我们将三层变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
纳米粉体高剪切研磨分散机设备参数表：
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 | |||||
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