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产品简介
克霉zuo高剪切胶体磨是针对克霉zuo物料的专业研磨设备，核心为精密配合的转子与定子。通过高速旋转产生强剪切、研磨力，能将克霉zuo固体颗粒细化至均匀粒径，同时实现与辅料的充分混合，避免成分团聚。适配医药、日化领域的克霉zuo制剂生产，保障产品浓度均一性，助力提升药效或使用性能。
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克霉zuo胶体磨它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有you越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均质度达90%以上，是超微粒加工的理想设备。
包含克霉zuo的药物组合物所述药物组合物包含甲硝zuo、克霉zuo、醋suan氯己定、羧甲基淀粉钠、羧甲基纤维素钠、甘油、和水，该方法包括以下步骤：
(1)、将甲硝zuo和克霉zuo用粉碎机粉碎，过100目筛，细粉装入洁净塑料袋内，扎紧后，放入不锈钢桶中，待用；
(2)、将处方总重量计60％的纯化水加热至40℃?50℃，将醋suan氯己定加入上述纯化水中，充分搅拌，使其wan全溶解，成澄清溶液，并保持溶液温度为40℃?50℃；
(3)、将步骤(1)中的甲硝zuo、克霉zuo和羧甲基纤维素钠置混合机中混合，得到均匀的混合粉；
(4)、将甘油缓缓加入步骤(2)的溶液中，边加入边搅拌，混合均匀，得澄清溶液；
(5)、将羧甲基淀粉钠缓慢播撒入少量步骤(4)的溶液中研磨浸润，再分批缓缓加入步骤(4)的溶液中，边加入边搅拌，使其成均匀浆液；
(6)、将步骤(3)的混合粉缓缓加入到步骤(5)中的粘稠膏状基质中，边加入边搅拌，全部加完后，采取间歇式搅拌直至罐内物料成为粘稠状膏体，再经胶体磨研磨后，补加纯化水至全量，缓慢降温至20℃?25℃，密封静置16?72小时，得本发明的药物组合物；和任选地
(7)、将步骤(6)所得本发明药物组合物分装到包装器具中。
胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
GM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
克霉zuo高剪切胶体磨GMSD2000设备参数表：
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 | |||||
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