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隔膜分散高速纳米胶体磨，研发出了二者相结合的研磨分散机，其磨头结构采用错齿形，自上而下齿槽深度由深到浅，定转子部分间隙理论上能够实现无限接近，再配合超高转速，当颗粒进入磨头腔体之后，瞬间即可被超微粉碎。
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ARTICLES隔膜分散高速纳米胶体磨，制作电池隔膜的分散工艺有以下要求：
- 均匀分散 ：隔膜材料中的各种组分需要均匀分散，以确保隔膜的性能一致性和稳定性。
- 控制孔径和孔隙率 ：隔膜的孔径和孔隙率对电池性能有重要影响。孔径需要均匀且适中，以保证锂离子的顺利通过和防止正负极短路。
- 保持材料的完整性 ：在分散过程中，要避免材料的过度剪切和破坏，以保持隔膜材料的完整性和力学性能。
- 避免杂质引入 ：分散工艺需要在洁净的环境中进行，以防止杂质的引入，影响隔膜的性能和电池的安全性。
- 能耗和成本控制 ：在保证隔膜性能的同时，还需要考虑分散工艺的能耗和成本，以实现经济效益。
思峻在传统胶体磨与均质机的基础上，研发出了二者相结合的研磨分散机，其磨头结构采用错齿形，自上而下齿槽深度由深到浅，定转子部分间隙理论上能够实现无限接近，再配合15000RPM的超高转速，当颗粒进入磨头腔体之后，瞬间即可被超微粉碎。从磨头腔体出来后进入分散盘腔内，根据物料的特性及处理量的要求，提供2G，4M，6F，8SF不同规格的斜齿，对磨细的颗粒进行二次剪切和分散，防止颗粒抱团。
高速研磨分散机， 线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三组锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二组由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过高速研磨分散机定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。
模块化设计的主要特点如下：
-直立式腔体结构，物料可以全部进入分散腔；
-良好的表面处理；
-符合CIP/SIP的清洗要求；
-低噪音；
-所有接触物料的材质均为SS316；
-小试、中试到量产，平稳过渡；
-仅需简单的更换功能模块，即可满足分散-悬浮-均质-乳化的不同要求；
-卫生设计，适合食品及制药行业；
-可提供特殊材质满足磨损性及腐蚀性产品处理要求。
隔膜分散高速纳米胶体磨型号表：
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 | |||||
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